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      刻蝕氣體應用

      東莞市建盟化學有限公司提供世界知名品牌刻蝕氣體應用技術工藝。刻蝕氣體應用包括蝕刻就是把基片上無光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜,金屬膜等蝕刻掉,而使有光刻膠掩蔽的區域保存下來,這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線條清晰,圖形變換差小,且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學蝕刻和干法化學蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳,三氟化氮,六氟乙烷,全氟丙烷,三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強,工藝控制精確,方便,無脫膠現象,無基片損傷和沾污,所以其應用范圍日益廣泛。

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