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      CVD設備應用

      東莞市建盟化學有限公司提供世界知名半導體晶圓制造CVD設備應用技術工藝。CVD設備應用包括化學氣相沉積技術成膜均勻性優、薄膜覆蓋率高、成膜質量好、涂層純度可控、可得到混合涂層、可鍍膜形狀復雜基體、可涂層粉體、可在常壓或真空條件下進行、可在低溫下合成高熔點物質,優點明顯,是制備高性能薄膜的重要技術。

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