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      東莞市建盟化學有限公司提供世界知名品牌半導體晶圓制造光刻曝光設備應用技術工藝。光刻曝光設備應用包括高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常在十幾納米至幾微米之間,高端光刻機號稱世界上最精密的儀器,世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花,其制造難度之大,全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。

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